Componente Óptico de Vidro de Sílica Fundida JGS1 JGS2 de Alta Precisão

Componente óptico de vidro de sílica fundido de alta precisão JGS1 JGS2

1Composição do material

• JGS1 Silício fundido:Vidro de quartzo sintético com transmissão ultravioleta (UV) excepcional, particularmente na faixa UV profunda (185-250 nm), e baixo teor de hidroxila (OH).

• JGS2 Silício fundido:Vidro de quartzo sintético com superior transmissão infravermelha (IR) e maior estabilidade térmica, com maior teor de hidroxila para diferentes desempenhos ópticos.

• Fabricação de alta precisão:Os componentes são fabricados usando técnicas avançadas de moagem CNC, torneamento de diamantes e polimento para alcançar precisão de superfície submicron e tolerâncias dimensionais apertadas.

2. Propriedades ópticas e físicas essenciais

• Faixa de transmissão espectral:

  • JGS1:Excelente transmissão de 185 nm (ultravioleta profunda) a 2,5 μm (near-IR).

  • JGS2:Excelente transmissão de 260 nm (UV) a 3,5 μm (Mid-IR).

• Estabilidade térmica e mecânica:Extremamente baixo coeficiente de expansão térmica (0,55 x 10−6/K), alta resistência ao choque térmico e forte durabilidade mecânica.

• Qualidade da superfície:Pode alcançar acabamentos de superfície de grau laser (por exemplo, λ/10 planosidade, 10-5 arranhões) com danos mínimos no subsolo.

• Resistência a danos por laser:Um limiar elevado adequado para aplicações excimer, UV e laser de alta potência.

3Funções essenciais

• Transmissão e controlo de luz de precisão:Manipula a luz UV para IR com distorção mínima da frente de onda, dispersão ou absorção.

• Direção e focagem do feixe:Serve como lentes, janelas, prismas e espelhos de alta precisão em caminhos ópticos complexos.

• Barreira ambiental e térmica:Protege as ópticas internas sensíveis em ambientes voláteis, mantendo a estabilidade em largas faixas de temperatura.

• Interface crítica do sistema:Assegura um desempenho óptimo em aplicações que exigem um alinhamento óptico exato e uma perda mínima de sinal.

4Aplicações primárias

• Fotolitografia por semicondutores:Componentes críticos em steppers e scanners que utilizam lasers UV profundos (DUV).

• Sistemas a laser de alta potência:Janela, lentes e óptica de entrega de feixe para excimer, Nd:YAG e lasers de fibra.

• Astronomia e Óptica Espacial:Espelhos de telescópio, lentes de satélite e componentes de espectrômetro que exijam estabilidade térmica.

• Instrumentos analíticos e de ciências da vida:Células de espectrofotômetro UV-Vis, janelas de detectores de fluorescência e óptica de microscópio.

• Metrologia e Inspecção Industrial:Óptica de precisão para interferômetros a laser, sistemas de inspecção de wafer e máquinas de medição de coordenadas ópticas.