Janela plana óptica de vidro de sílica fundido sob medida para instrumentos de precisão

Janela plana óptica de vidro de sílica fundido sob medida para instrumentos de precisão

Propriedades do material e do núcleo:
Estas janelas são fabricadas a partir de sílica sintética fundida de alta pureza (SiO2), um material de primeira linha para óptica avançada.

• Excepcional planície da superfície:Produzido sob medida para especificações de planura rigorosas, muitas vezes para λ / 10 ou λ / 20, garantindo distorção mínima da frente de onda para medição e imagem precisas.

• Transmissão Espectral Ampla:Possui excelente transmissão do ultravioleta profundo (UV, ~ 185nm) através do espectro visível e no infravermelho próximo (NIR, ~ 2,5 μm), tornando-o ideal para sistemas de vários comprimentos de onda.

• Expansão térmica ultra-baixa:Possui um coeficiente extremamente baixo de expansão térmica (~ 0,55 x 10−6/°C), proporcionando uma estabilidade dimensional excepcional sob ciclos térmicos e evitando a deriva do foco.

• Altíssimo limiar de danos por laser e inércia química:Resiste a danos de raios laser de alta potência e é altamente resistente a arranhões, água e a maioria dos ácidos, garantindo longevidade em ambientes operacionais adversos.

Função principal:
A função principal de uma janela plana óptica é fornecer uma interface selada e opticamente neutra.

• Proteger os componentes internos sensíveis de poeira, umidade, produtos químicos e contato físico, permitindo a passagem da luz com a mínima absorção ou distorção.

• Manter a pressão ou o vácuo dentro de uma câmara de instrumentos sem alterar a trajetória óptica.

• Serve como superfície de referência na interferometria e noutras ferramentas de metrologia devido à sua excepcional planitude e homogeneidade da superfície.

Principais aplicações:

• Sistemas laser e eletro-ópticos:Como janelas de entrada/saída para cavidades, gabinetes e cortadores a laser de alta potência.

• Instrumentos de metrologia de precisão:Em interferômetros, espectrômetros e autocollimadores onde um plano de referência é crítico.

• Equipamento de processamento de semicondutores:Para janelas de inspecção em câmaras de litografia, gravação e CVD que exijam transmissão UV e resistência química.

• Sensores aeroespaciais e de defesa:Como pontos de visão duráveis e estáveis para satélites, telemetros e sistemas de mira expostos a condições extremas.

• Aparelhos de investigação científica:Em câmaras de vácuo, sistemas criogénicos e configurações experimentais onde a transmissão de banda larga e a estabilidade térmica são primordiais.