Substratos de discos de vidro críticos de planeza óptica para deposição de filme fino

Substratos de discos de vidro críticos de planeza óptica para deposição de filme fino

Materiais

• Vidro de alta pureza: Normalmente fabricados a partir de sílica fundida (JGS1/JGS2), borosilicato ou quartzo, selecionados para expansão térmica ultra-baixa e inércia química.

  • Fusão de sílica: Preferido pela sua excepcional homogeneidade, baixo teor de OH e resistência ao choque térmico.

  • Borosilicato: Alternativa rentável com estabilidade térmica moderada e boa polibilidade da superfície.

• Qualidade da superfície: concebido com uma planitude de λ/10 a λ/20 para garantir um desvio mínimo para revestimentos de precisão.

Propriedades-chave

1. Planeza óptica: Planura da superfície ≤ λ/10 (a 632,8 nm), crítica para a deposição uniforme de filme fino e minimizando a distorção da frente de onda.

2. Estabilidade térmica: Baixo coeficiente de expansão térmica (por exemplo, 0,55 x 10−6/°C para sílica fundida) impede a deformação durante processos de alta temperatura como CVD ou pulverização.

3. Resistência química: Inerte a ácidos, plasmas e solventes, garantindo durabilidade em ambientes de deposição agressivos.

4. Homogeneidade da superfície: A uniformidade do índice de refração (± 5 x 10−6) evita distorções ópticas nos filmes revestidos.

5. Durabilidade mecânica: Alta dureza (Mohs 5 ̊7) resistente a arranhões durante o manuseio e o processamento.

Função

• Substrato de película fina: Fornece uma base ultraplaca e estável para depositar revestimentos (antireflectores, dielétricos, metálicos).

• Compatibilidade dos processos: Compatível com PVD, CVD, ALD e técnicas de pulverização, garantindo aderência e espessura uniformes do filme.

• Referência de metrologia: Serve como padrão de calibração para interferômetros e perfis de superfície devido à precisão da planitude.

Aplicações

• Fabricação de semicondutores: Máscaras fotográficas, espelhos de litografia EUV e dispositivos ópticos MEMS.

• Indústria de óptica: filtros revestidos, divisores de feixe e óptica a laser que requerem precisão de nível nanométrico.

• Investigação e Desenvolvimento: Nanotecnologia, fotônica e computadores quânticos.

• Aeronáutica e Defesa: Sensores de precisão, óptica por satélite e sistemas de orientação a laser.

• Dispositivos médicos: Revestimentos ópticos para sistemas de imagem, endoscópios e equipamentos de diagnóstico.